| 适配机型 | ALD / CVD |
| 应用行业 | 集成电路 |
| 清洗 | 半导体级清洗 脱脂 |
| 工作温度 | ≤450℃ |
| 电压 | 208V 功率≤6.0KW ±5% |
| 温度均匀性 | ≤ ±1.0% |
| 加工精度 | 表面平面度：<0.0254mm / 表面粗糙度：<Ra0.4um / 同轴度：<0.0254mm / 平行度：<0.0762mm / 垂直度：<0.0635mm |
| 升温速率 | ≤10min@400℃ |
| 真空漏率 | ≤1.0×10-9 Torr |
| 包装 | 百级无尘间包装 |
| 功率密度 | ≤10w/cm² |
| 表面处理 | 阳极10μm±2μm / AlF(氟化)7.0±1.0 |
| 电气参数 | 绝缘强度≥100MΩ@500VDC / 耐压强度≥1500V /min ＜3.5mA |
| 材质 | Cr20Ni80/Cr10Ni90 |
| 加工工艺 | 摩擦焊 + 真空钎焊+电子束焊接 |
| 耐受特气 | N2/N2O/C2F6/NH3 /O2/SiH4/ PH3/ B2H6 / NF3 /Ar/ He |
