适配机型 | ALD / CVD |
应用行业 | 集成电路 |
清洗 | 半导体级清洗 脱脂 |
工作温度 | ≤450℃ |
电压 | 208V 功率≤6.0KW ±5% |
温度均匀性 | ≤ ±1.0% |
加工精度 | 表面平面度:<0.0254mm / 表面粗糙度:<Ra0.4um / 同轴度:<0.0254mm / 平行度:<0.0762mm / 垂直度:<0.0635mm |
升温速率 | ≤10min@400℃ |
真空漏率 | ≤1.0×10-9 Torr |
包装 | 百级无尘间包装 |
功率密度 | ≤10w/cm² |
表面处理 | 阳极10μm±2μm / AlF(氟化)7.0±1.0 |
电气参数 | 绝缘强度≥100MΩ@500VDC / 耐压强度≥1500V /min <3.5mA |
材质 | Cr20Ni80/Cr10Ni90 |
加工工艺 | 摩擦焊 + 真空钎焊+电子束焊接 |
耐受特气 | N2/N2O/C2F6/NH3 /O2/SiH4/ PH3/ B2H6 / NF3 /Ar/ He |